n型半导体和p型半导体的区别_VNX系列大流量工业型膜堆， 为半导体等行业提供超纯水！...

自20世纪80年代以来，IONPURE®始终以为广泛的应用提供最优质的电化学解决方案延续着它的领导地位。

IONPURE®持续创新，于2004年推出了VNX 系列大流量CEDI膜堆，单个膜堆的名义产水流量最大可达12.5m³/h。IONPURE®于2018年推出了单个膜堆的名义产水流量为15m³/h的VNX-MAX大流量CEDI膜堆。VNX系列膜堆既可以水平安装，也可以垂直安装。

在今天，有数以万计的IONPURE® CEDI 膜堆安装在世界范围的水净化系统里，为制药、微电子、电力行业的应用提供高品质的高纯水或超纯水。

专门设计

VNX55-E和VNX55-EX大流量膜堆专门针对微电子行业所需堆超纯水而优化设计。

主要优势

1	电阻率16-18MΩ.cm
2	硼去除率95-99%
3	连续运行，无需再生
4	钠离子去除率99.8-99.9%
5	硅去除率95-99%
6	氯离子去除率99.8-99.9%

案例介绍

01

IONPURE VNX大流量EDI膜堆在

LG Display南京工厂成功运行

项目背景

乐金显示(LG Display)是全球最大的液晶面板制造商，也是全球最大的薄膜晶体管液晶显示器面板，有机发光二极管和柔性显示器供应商和制造商之一。乐金显示(南京)有限公司，成立于2002年，是LGD在海外投资兴建的第一家模组工厂。2015年南京工厂新建高标准超纯水系统工程(系统规模为2*45m³/h)，由Hansung Cleantec(韩星环境株式会社)筹建。

解决方案

韩星环境(HASCO)是韩国本土著名水处理企业，与IONPURE®有着良好的合作伙伴关系，为了满足整体工程严苛、稳定的出水性能以及环境需求，超纯水终端使用了美国Evoqua懿华水处理旗下著名品牌IONPURE® 原装美国进口大流量EDI大膜堆，型号为VNX-55EP膜堆。

VNX系列膜堆流量介于6.0m³/h (33 gpm)- 22.7m³/h (100 gpm) ，根据水质条件可以进行流量的优化调节。由于其自身在大水量设计、出水水质优越性、高除硅、高除硼、耐高硬度、系统配置简化、能耗相对较低以及占地面积小等综合特点，自2004年上市至今，在各行各业有着成功的运行经验，尤其是在电子半导体行业有着超过15年以上的广泛成功应用。当前在中国大陆以外纯水及超纯水市场行业，VNX大膜堆已经成为大众客户公认标配或普遍选择的重要产品之一。

运行状态

项目从2015年调试成功运行至今，系统连续稳定运行且出水水质完全满足终端需求，当前系统性能仍能维持在平均电压150V，平均电流3A，出水电阻大于15MΩ.cm，得到了韩方面领导和南京工厂管理团队的一致好评和认可。

02

昆明钢铁厂

昆明钢铁厂锅炉补给水项目，投建于2011年，数量2套，每套使用VNX-55EP膜堆3台，单套水量45m³/h.设备运行状态良好，2019年10月更换一套装置，使用最新VNX-MAX膜堆。

优势特点

板框模块化集成

• 集成化程度高

• 根据需求可随意组合

• 可拆解、维护性方便

• 较普通模块占地面积更小，节省1/3以上

• 降低系统安装工作量，减少系统连接和控制点

• 安装、维护更方便，集成度高

• 系统安全性更高、性能更稳定

运行成本低

• 举例150m³/h一套EDI装置

• VNX: 每吨水电耗0.018KWh

• 小模块:每吨水电耗0.051KWh

高硬度

• 给水当量电导率，包括CO²和二氧化硅<100 μS/cm

• 最高总硬度 (CaCO³)<4.0ppm

• 最大给水二氧化硅(SiO²)浓度2ppm

• 提升了CO²脱除能力

• 多数情况下，可在单向RO渗透下运行

• 优化了薄电池技术，提高了给水硬度耐受性

• 运行费用远低于传统离子交换/小模块

• 稳定保证无泄漏运行

主要产品介绍

VNX系列产品

性能比较

联系我们：sales.cn@evoqua.com

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总结

以上是生活随笔为你收集整理的n型半导体和p型半导体的区别_VNX系列大流量工业型膜堆， 为半导体等行业提供超纯水！...的全部内容，希望文章能够帮你解决所遇到的问题。

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