光刻技术简介

一、何为光刻技术

光刻技术(Photolithography)是微电子与集成电路制备最关键的工艺，其作用正如英文：光（photo）——石（litho）——书写（graphy），及利用光在芯片表面印刷出图案样式，以定义芯片的功能。

二、光刻技术大致流程

光刻技术的流程大致是：

1.涂胶：在硅片表面的二氧化硅薄膜涂上光刻胶（由光敏化合物等混合而成的可在特定波长光照下分解的有机溶剂）

2.前烘：烘培让胶膜里的溶剂充分挥发

3.曝光：将掩模版（石英玻璃制成的薄片涂上铬）吐糟光刻胶上以遮掩部分光刻胶

4.显彰：光线照射部分的光刻胶反应分解，被掩模版遮掩的部分则保留，最终形成了掩模版的图案

总结

以上是生活随笔为你收集整理的光刻技术简介的全部内容，希望文章能够帮你解决所遇到的问题。

如果觉得生活随笔网站内容还不错，欢迎将生活随笔推荐给好友。